本格的な極端紫外線リソグラフィー（EUV露光）での半導体生産が始まりそうです。
日経クロステックの予想では量産開始は早くても２０２０年なので、次期ｉＰｈｏｎｅの最上位製品が利用するのでしょうか？
さて、処理能力を活かして新しい機能を追加するか、省電力を武器に薄く軽くするかお手並み拝見です。
ＥＵＶ露光で可能になる５ｎｍ設計では、消費電力を下げながら処理能力を高めらるので、電池の小さいスマホ以下の製品に恩恵があると理解しています。
しかし、EUV光源が低出力・短寿命なので製品単価が高く、配線間隔が狭く高い電圧には耐えられず、高集積度小面積なため放熱困難と考えられます。
そのため、一部ＥＵＶ露光を利用したらしい現行７ｎｍ設計の製品は、現行ｉＰｈｏｎｅの最上位製品辺りで、高性能ノートパソコンをでの採用は無かったと記憶しています。
